Undergraduate works

Undergraduate works at ISTN

Tutors:

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(Possible topics may arise in the near term.)

 

Dipl.-Ing. Martin Keyn

Finished:

Dennis Noll,
Ellipsometrical and electrical characterization of catalyst systems of a manufacturing process for carbon nanotubes
[master thesis]

Dennis Schäfer,
Annealing influence on the catalyst of a CNT growth technology
[bachelor thesis]

Andreas Kramer,
AFM measurements on carbon structures in nanoelectronics
[bachelor thesis]

Johannes Palm,
Process technology for production of CNTFETs for field-effect power applications
[master thesis]

 

Dipl.-Wirt.-Ing. Tillmann Krauss

Finished:

Karsten Beckmann,
Simulation and technology optimizsation of NiSi mid-gap electrodes for novell dopantfree dualgate MOSFET devices
[master thesis]

 
 

Dr.-Ing. M.Sc. Pia Juliane Wessely

Victor de Bodt Sivieri,
Examinations to increase the performance of graphene field effect transistors
[bachelor thesis]

Victor Velloce Ferreira,
Examination of the device architecture of second generation graphene field effect transistors by atomic force microscopy
[bachelor thesis]

Karsten Beckmann,
Elektrische und topographische Charakterisierung von in CCVD hergestellten Graphen-Bauelementen
[bachelor thesis]

Emrah Birinci,
Untersuchung des CVD unterstützten Wachsstums von Graphen-Schichten für die Herstellung von Feldeffekt-Bauelementen
[bachelor thesis]

 

Dr.-Ing. Frank Wessely

Dennis Noll,
Electrical characterization of Nanowire-SOI-memory-structures
[bachelor thesis, abstract]

Tillmann Krauss,
Elektrische Charakterisierung, Simulation und Backend-Prozessierung von Si-Nanodraht PI-Multi-Gate FET Prototypen auf SOI-Substrat
[diploma thesis]

H. Yang,
Skalierung eines Damascene-Metal-Gate-Last-Prozesses mittels Elektronenstrahlithographie
[diploma thesis]

S. Sänger,
Prozesssimulation und Herstellung von Nanowires auf SOI Substraten mit einem 2 Maskenprozess
[seminar paper]

V. Pedrero,
Optimierung von state-of-the-art Plasmaätzprozessen für sub-100nm Strukturen
[seminar paper]

 

Dr.-Ing. Ralf Endres

Tillmann Krauss,
Untersuchungen zur elektrischen Zuverlässigkeit von High-k-Schichten
[seminar paper]

N. Pervin,
Herstellung und Charakterisierung von High-k-Schichten
[bachelor thesis]

B. Meyer,
Optimierung eines CMP-Prozesses hinsichtlich globaler Planariserung durch Layoutmodifikation für Damascene-Metal-Gate-Anwendungen
[master thesis]

K. Stegmaier,
The formation and characterisation of HfO2 Metal-Insulator-Semiconductor structures
[diploma thesis]