Studentische Arbeiten

Studentische Arbeiten am IHTN

Betreuer:

Beachten Sie bitte auch die Aushänge im Institut oder sprechen Sie die Betreuer direkt an!
(Mögliche Themen können sich auch kurzfristig ergeben.)

 

Dipl.-Ing. Martin Keyn

Abgeschlossen:

Dennis Noll,
Ellipsometrische und elektrische Charakterisierung von Katalysatorsystemen einer Herstellungstechnologie für Kohlenstoffnanoröhren
[Masterarbeit]

Dennis Schäfer,
Tempereinfluss auf den Katalysator einer CNT-Herstellungstechnologie
[Bachelorarbeit]

Andreas Kramer,
AFM-Messungen an Kohlenstoff-Strukturen für die Nanoelektronik
[Bachelorarbeit]

Johannes Palm,
Prozesstechnologie zur Herstellung von CNTFETs für Feldeffekt-Leistungsanwendungen
[Masterarbeit]

 

Dipl.-Wirt.-Ing. Tillmann Krauss

Abgeschlossen:

Karsten Beckmann,
Simulation und Technologieoptimierung von NiSi-Bandlückenmitten-S/D-Elektroden für neuartige dotierstofffrei Doppel-Steuerelektroden-MOSFET-Bauelemente
[Masterarbeit]

 
 

Dr.-Ing. M.Sc. Pia Juliane Wessely

Victor de Bodt Sivieri,
Examinations to increase the performance of graphene field effect transistors
[Bachelorarbeit]

Victor Velloce Ferreira,
Examination of the device architecture of second generation graphene field effect transistors by atomic force microscopy
[Bachelorarbeit]

Karsten Beckmann,
Elektrische und topographische Charakterisierung von in CCVD hergestellten Graphen-Bauelementen
[Bachelorarbeit]

Emrah Birinci,
Untersuchung des CVD unterstützten Wachsstums von Graphen-Schichten für die Herstellung von Feldeffekt-Bauelementen
[Bachelorarbeit]

 

Dr.-Ing. Frank Wessely

Dennis Noll,
Elektrische Charakterisierung von Nanodraht-SOI-Speicherstrukturen
[Bachelorarbeit, Kurzbeschreibung]

Tillmann Krauss,
Elektrische Charakterisierung, Simulation und Backend-Prozessierung von Si-Nanodraht PI-Multi-Gate FET Prototypen auf SOI-Substrat
[Diplomarbeit]

H. Yang,
Skalierung eines Damascene-Metal-Gate-Last-Prozesses mittels Elektronenstrahlithographie
[Diplomarbeit]

S. Sänger,
Prozesssimulation und Herstellung von Nanowires auf SOI Substraten mit einem 2 Maskenprozess
[Studienarbeit]

V. Pedrero,
Optimierung von state-of-the-art Plasmaätzprozessen für sub-100nm Strukturen
[Studienarbeit]

 

Dr.-Ing. Ralf Endres

Tillmann Krauss,
Untersuchungen zur elektrischen Zuverlässigkeit von High-k-Schichten
[Studienarbeit]

N. Pervin,
Herstellung und Charakterisierung von High-k-Schichten
[Bachelorarbeit]

B. Meyer,
Optimierung eines CMP-Prozesses hinsichtlich globaler Planariserung durch Layoutmodifikation für Damascene-Metal-Gate-Anwendungen
[Masterarbeit]

K. Stegmaier,
The formation and characterisation of HfO2 Metal-Insulator-Semiconductor structures
[Diplomarbeit]