Studentische Arbeiten am IHTN
Betreuer:
Beachten Sie bitte auch die Aushänge im Institut oder sprechen Sie die Betreuer direkt an!
(Mögliche Themen können sich auch kurzfristig ergeben.)
Dipl.-Ing. Martin Keyn
Abgeschlossen:
Dennis Noll,
Ellipsometrische und elektrische Charakterisierung von Katalysatorsystemen einer Herstellungstechnologie für Kohlenstoffnanoröhren
[Masterarbeit]
Dennis Schäfer,
Tempereinfluss auf den Katalysator einer CNT-Herstellungstechnologie
[Bachelorarbeit]
Andreas Kramer,
AFM-Messungen an Kohlenstoff-Strukturen für die Nanoelektronik
[Bachelorarbeit]
Johannes Palm,
Prozesstechnologie zur Herstellung von CNTFETs für Feldeffekt-Leistungsanwendungen
[Masterarbeit]
Dipl.-Wirt.-Ing. Tillmann Krauss
Abgeschlossen:
Karsten Beckmann,
Simulation und Technologieoptimierung von NiSi-Bandlückenmitten-S/D-Elektroden für neuartige dotierstofffrei Doppel-Steuerelektroden-MOSFET-Bauelemente
[Masterarbeit]
Dr.-Ing. M.Sc. Pia Juliane Wessely
Victor de Bodt Sivieri,
Examinations to increase the performance of graphene field effect transistors
[Bachelorarbeit]
Victor Velloce Ferreira,
Examination of the device architecture of second generation graphene field effect transistors by atomic force microscopy
[Bachelorarbeit]
Karsten Beckmann,
Elektrische und topographische Charakterisierung von in CCVD hergestellten Graphen-Bauelementen
[Bachelorarbeit]
Emrah Birinci,
Untersuchung des CVD unterstützten Wachsstums von Graphen-Schichten für die Herstellung von Feldeffekt-Bauelementen
[Bachelorarbeit]
Dr.-Ing. Frank Wessely
Dennis Noll,
Elektrische Charakterisierung von Nanodraht-SOI-Speicherstrukturen
[Bachelorarbeit, Kurzbeschreibung]
Tillmann Krauss,
Elektrische Charakterisierung, Simulation und Backend-Prozessierung von Si-Nanodraht PI-Multi-Gate FET Prototypen auf SOI-Substrat
[Diplomarbeit]
H. Yang,
Skalierung eines Damascene-Metal-Gate-Last-Prozesses mittels Elektronenstrahlithographie
[Diplomarbeit]
S. Sänger,
Prozesssimulation und Herstellung von Nanowires auf SOI Substraten mit einem 2 Maskenprozess
[Studienarbeit]
V. Pedrero,
Optimierung von state-of-the-art Plasmaätzprozessen für sub-100nm Strukturen
[Studienarbeit]
Dr.-Ing. Ralf Endres
Tillmann Krauss,
Untersuchungen zur elektrischen Zuverlässigkeit von High-k-Schichten
[Studienarbeit]
N. Pervin,
Herstellung und Charakterisierung von High-k-Schichten
[Bachelorarbeit]
B. Meyer,
Optimierung eines CMP-Prozesses hinsichtlich globaler Planariserung durch Layoutmodifikation für Damascene-Metal-Gate-Anwendungen
[Masterarbeit]
K. Stegmaier,
The formation and characterisation of HfO2 Metal-Insulator-Semiconductor structures
[Diplomarbeit]