Dissertationen

Von Prof. Schwalke betreute Dissertationen

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Dennis Noll

Graphen-basierte Kohlenstoffnanoelektronik [Arbeitstitel]

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Tillmann Krauss

Konzeption, Realisierung, Charakterisierung und Optimierung von Multi-Gate Feldeffekttransistorstrukturen [Arbeitstitel]

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Martin Keyn

Untersuchungen einer Herstellungstechnologie für Feldeffekt-Transistoren auf Basis von Kohlenstoffnanoröhren [Arbeitstitel]

Mai 2013
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Pia Juliane Wessely

Graphen-Transistoren: Silizium CMOS kompatible Herstellung für Anwendungen in der Nanoelektronik

September 2011
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Yordan Stefanov

The Application of Atomic Force Microscopy in Semiconductor Technology - Towards High-k Gate Dielectric Integration

Juni 2011
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Frank Wessely

CMOS ohne Dotierstoffe: Neuartige siliziumbasierte Nanodraht-Feldeffekt-Bauelemente

März 2011
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Ralf Endres

Gate-Last-Prozessintegration und elektrische Bewertung von High-k-Dielektrika und Metall-Elektroden in MOS-Bauelementen

September 2009
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Florian Zaunert

Simulation und vergleichende elektrische Bewertung von planaren und 3D-MOS-Strukturen mit high-k Gate Dielektrika

September 2009
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Lorraine Rispal

Large Scale Fabrication of Field-Effect Devices based on In Situ Grown Carbon Nanotubes

Juli 2006
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Rama Subrahmanyam Komaragiri

A Simulation Study on the Performance Improvement of CMOS Devices Using Alternative Gate Electrode Structures

Januar 2004
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Andreas Kerber

Methodology for Electrical Characterization of MOS Devices with Alternative Gate Dielectrics